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重生之工业狂潮

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第三百一十三章 光刻技术
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刷上集成线路的硅片。

    1961年,山姆国gca公司的david  w.  mann部门,制造出第一台步进式光刻机,售价30000刀,精度1微米。

    1984年,阿斯麦成立,当时蓝星大概有10家光刻机制造商,那时这个行业的老大是gca,阿斯麦倒数第一。

    到80年代末,蓝星活着的光刻机企业只剩下5家,包括太阳国的尼康、佳能,山姆国的gca、svg。

    阿斯麦排第四位。

    1995年,阿斯麦经历沟沟坎坎后,获得了三星电子的超大订单,并在哥谭证券交易所上市,而曾经的老大gca在被收购一次后,已经被关闭。

    随着对阿斯麦的深挖,安德烈又了解到了euv的消息。

    &reme  ultra-violet的简写,这三个单词直译是“极度紫色”,用在半导体领域,代表的是“极紫外光刻”的意思。

    紫外光在电磁波谱中,范围波长为400到10纳米。

    极紫外光刻,是以波长10到14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。

    1997年山姆国成立了euv  llc联盟,asm在做出多项让步后成功入局。

    euv  llc联盟汇聚了山姆顶尖的研究资源和芯片巨头,包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家实验室,联合ibm、amd、motoro等巨头,集中数百位顶尖科学家,共同研究euv技术。

    安德烈将

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